從GMP的角度，制藥廠制藥設備應具有以下功能。
一、凈化功能
潔凈是GMP的要點之一，對設備來講包含兩層意思，即設備自身不對生產環境形成污染以及不對藥物產生污染。要達到這一標準就必須在藥品加工中，凡有藥物（藥品）暴露的、室區潔凈度達不到要求或有人機污染可能的，原則上均應在設備上設計有凈化功能。
二、清洗功能
目前制藥廠制藥設備的清洗多處于人工清洗，能在線清洗的不多。人工清洗克服了物料之間的交叉污染，但也容易帶來新的污染，而且設備常因結構因素導致清洗困難。隨著對藥品純度和有效性的重視，GMP提倡的設備在線清洗（CIP）功能，將成為清洗技術的發展方向。
三、在線監測與控制功能
GMP提倡設備具有分析、處理系統，能夠根據設定的程序完成幾個工序的工作，這也是設備連線、聯動操作和控制的前提。但在目前純機械及功能單一設備多的情況下，是較難實現這一要求的，與此同時卻具有了擴展這一功能的有利條件。
四、安全保護功能
藥品常具有熱敏性、吸濕性和揮發性等性質，在生產過程中若不注意藥品的這些性質，藥品可能會發生變質。為此，GMP對制藥設備產生了諸如防塵、防水、防過熱、防爆、防滲入、防靜電、防過載等保護功能，并且有些還要考慮在非正常情況下的保護。
制藥廠制藥設備是實施藥品生產的關鍵因素，其性能直接影響藥品的質量。不同藥品的生產，所采用的設備差異懸殊。